Półmaska filtrująca OXY X 210 FFP2 R D

Półmaska filtrująca OXY X 210 FFP2 R D/ OXYLINE. Spełnia normy PN-EN 149+A1:2010 ( Sprzęt ochrony układu oddechowego - Półmaski filtrujące do ochrony przed cząstkami. Wymagania, badanie, znakowanie). Półmaska filtrująca X 210 V FFP2 R D przeznaczona jest do ochrony układu oddechowego przed aerozolami cząstek stałych, aerozolami na bazie wody (pył, dym) oraz aerozolami z ciekłą fazą rozproszoną (mgły) dla których NDS jest ≥0,05 mg/m3 o ile stężenie fazy rozproszonej nie przekracza 10 x NDS. Półmaska jest tak skonstruowana, aby można było w niej z łatwością oddychać w trakcie całej zmiany roboczej ( 8 godzin). Dzięki anatomicznemu kształtowi oraz zaciskowi nosowemu, który znajduje się pod spodem w piance, półmaska jest łatwa do dopasowanie dla większości kształtów twarzy, tak aby zapewnić konieczną szczelność. 

PRZYKŁADOWE ZASTOSOWANIE: średnio toksyczne cząstki stałe, pyły azbestu, miedzi, baru, tytanu, wanadu, chromu, manganu, pyły drewna twardego, pył węglowy zawierający wolną krzemionkę powyżej 10%, przemysł górniczy, chemiczny, hutniczy, przy obróbce drewna twardego.

CHARAKTERYSTYKA/ KONSTRUKCJA MASKI

• Wielowarstwowy materiał filtracyjny: polipropylen
• Zacisk nosowy dla formatowania półmaski w obrębie nosa
• Zawór wydechowy z tworzywa sztucznego
• Taśma nagłowia wykonana z nitek gumowych w oplocie
• Mocowania taśm nagłowia wykonane z tworzywa sztucznego
• Uszczelka nosowa wykonana z pianki poliuretanowej